全套去離子水處理系統備一般以反滲透(RO)純水作為去離子給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達17MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途，適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。

適用行業：

電子行業生產如單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯象管、玻殼、液晶顯示器、印刷電路版、光學、光電、熱電廠、冶金、化工、輕工、汽車制造、制藥、衛生等制造工業用純水；
醫藥行業的大輸液、醫藥制劑、檢驗分析、血液透析、制藥、制劑工藝用水；
涂裝行業如電鍍、電池生產、電泳漆生產線；汽車、電器、建材產品表面清洗、涂裝；玻璃、塑料表面鍍膜等；
化工行業如化學制藥、紡織印染、精細化工、化妝品、墨盒、日化產品等；

實驗用水如工廠、大學及公司的生產實驗室、化學實驗室、物理實驗室、中試車間、生化室等。

全套去離子水處理系統特點：

1、 開機后設備實現膜自動沖洗功能，沖洗時間 2-10 分鐘 可調。

2、 設備有廢水回流裝置，可對水進行二次利用，提高水的 利用率，節省水費。

3、 低壓保護系統，當源水壓力不足或無源水時，設備自動 停機，保護高壓泵及設備安全。

4、 純水箱水滿后設備可自動停機。

5、 設備設有清洗保養系統，可定期對設備定行清洗保養， 延長反滲透膜使用壽命 3-5 年。